東京エレクトロン

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東京エレクトロン株式会社
Tokyo Electron Limited
Tokyo Electron Logo.jpg
Akasaka-Biz-Tower-01.jpg
本社が入居している「赤坂Bizタワー
種類 株式会社
市場情報
東証1部 8035 1980年6月2日上場
略称 東エレク、TEL
本社所在地 日本の旗 日本
107-6325
東京都港区赤坂五丁目3番1号
赤坂Bizタワー
設立 1951年4月6日(※)
(桜洋行株式会社)
業種 電気機器
事業内容 半導体製造装置及びFPD(フラット・パネル・ディスプレイ)製造装置、電子部品・情報通信機器の産業用エレクトロニクス製品の製造・販売
代表者 東 哲郎(代表取締役会長兼社長)
資本金 549億6119万円
発行済株式総数 1億8061万0911株
売上高 連結:6131億24百万円
単独:5550億92百万円
(2015年3月期)
営業利益 連結:881億13百万円
単独:470億94百万円
(2015年3月期)
純利益 連結:718億88百万円
単独:632億67百万円
(2015年3月期)
純資産 連結:6411億62百万円
単独:4054億68百万円
(2015年3月31日現在)
総資産 連結:8761億53百万円
単独:6717億59百万円
(2015年3月31日現在)
従業員数 連結:12,201人 単独:1,293人
(2013年3月31日現在)
決算期 3月31日
主要株主 日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口) 10.88%
日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社(信託口) 7.24%
株式会社東京放送ホールディングス 4.27%
メロン バンク トリーティー クライアンツ オムニバス 3.16%
(2013年9月30日現在)
主要子会社 グループ会社参照
外部リンク http://www.tel.co.jp/
特記事項:※ 株式の額面変更のため1978年10月に、(旧)東京エレクトロン株式会社は休眠会社であった(新)東京エレクトロン株式会社に形式上吸収合併され、消滅した。旧会社の設立日は1963年11月11日
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東京エレクトロン株式会社(とうきょうエレクトロン)は、東京都港区赤坂に本社を置く、半導体製造装置およびフラットパネルディスプレイ製造装置をビジネスとする会社である。この分野でのシェアは、日本で第1位、世界で第3位である。東京証券取引所一部上場。

なお、ハンドドライヤー(エアータオル)を製造する同名の会社(本社・東京都多摩市)も存在するが、関連は一切ない。

主な取り扱い製品[編集]

半導体製造装置[編集]

  • コータ/デベロッパー半導体を製造する際に、フォトリソグラフィープロセスにおいて感光剤の塗布と現像を行う装置。
  • サーマルプロセスシステム(熱処理成膜装置)-トランジスタの絶縁膜をつくるための製造装置。半導体製造において、トランジスタの性能向上を図るために、短時間で高温での熱処理が必要とされている。
  • エッチング装置
  • サーフェス プレパレーション装置-半導体製造過程において、チリ、ほこり等の不純物を洗浄するための装置。

フラットパネルディスプレイ製造装置[編集]

電子部品・情報通信機器[編集]

  • 半導体電子デバイス、一般電子部品
  • ネットワーク機器、ストレージ製品等のソリューション

沿革[編集]

  • 1963年11月 - 東京放送(現:東京放送ホールディングス)の出資により、株式会社東京エレクトロン研究所を設立。
  • 1968年2月 - 米国サームコ社との合弁会社、テル・サームコ株式会社(現:東京エレクトロン東北株式会社)を設立。
  • 1976年6月 - テル・サームコが世界初の高圧酸化装置を開発。
  • 1978年10月 - 株式会社東京エレクトロン研究所から現社名の東京エレクトロンに社名変更。
  • 1980年 6月 - 東京証券取引所第2部に上場。
  • 1984年 3月 - 東京証券取引所第1部に昇格。
  • 1990年8月 - 東京エレクトロンFE株式会社を設立し、液晶ディスプレイ(LCD)製造装置(FPD製造装置)に本格進出。
  • 1990年10月 - 東京エレクトロン デバイス操業開始。
  • 1994年 8月 - 本社を赤坂TBS放送センターに移転。
  • 1999年10月 - 東京証券取引所第1部における業種変更。(「商業」→「電気機器」へ)
  • 2000年 8月 - 1単位の株式数を1,000株→100株に変更。
  • 2003年 3月 - 東京エレクトロン デバイス株式会社が東京証券取引所第2部に上場。
  • 2006年 4月 - 東京エレクトロンAT株式会社を3社に分割。(東京エレクトロンAT株式会社、東京エレクトロン東北株式会社、東京エレクトロンTS株式会社)
  • 2008年 2月 - シャープと合弁で東京エレクトロンPV株式会社を設立。
  • 2008年2月18日 - 本社を赤坂Bizタワーに移転
  • 2012年11月 - 東京エレクトロンPV株式会社を解散。
  • 2013年9月24日 - 米半導体製造装置大手のアプライド・マテリアルズと2014年後半までに経営統合することで合意。
  • 2015年4月27日 - 「アメリカ合衆国司法省の承認が得られない」ことを理由として、アプライド・マテリアルズとの経営統合を断念することを公表[1]

グループ会社[編集]

日本[編集]

  • 東京エレクトロン山梨株式会社 - 旧称「東京エレクトロンAT」。Siエッチング装置、LCDエッチング装置の製造
  • 東京エレクトロン東北株式会社 - 熱拡散炉の製造
    山梨事業所(山梨県韮崎市
  • 東京エレクトロンTS株式会社 - ウェーハプローバの開発・製造
  • 東京エレクトロン九州株式会社 - 半導体製造装置(コータ/デベロッパ、サーフェスプレパレーション(洗浄)装置)、FPD製造装置(FPDコータ/デベロッパ)の製造
    合志事業所(熊本県合志市
    大津事業所(熊本県菊池郡大津町
  • 東京エレクトロン宮城株式会社 - プラズマエッチング装置の開発・製造
  • 東京エレクトロン デバイス株式会社 - 産業用エレクトロニクス製品の設計・開発、半導体電子デバイス及び情報通信機器の販売、保守
  • 東京エレクトロン FE株式会社 - 装置の設置・保守サービス
  • 東京エレクトロン BP株式会社 - 物流サービス、施設管理、給与・福利厚生、オフィスサポート
  • 東京エレクトロン エージェンシー株式会社 - 保険代理

米国[編集]

  • Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc. - 米国統括拠点
  • Tokyo Electron America, Inc. - 米国におけるセールス・サポート
  • TEL Technology Center, America, LLC. - 半導体製造装置の研究・開発
  • TEL Venture Capital, Inc.
  • TEL Epion Inc. - ガスクラスターイオンビーム(GCIB)技術を用いた産業用製造装置の開発・製造
  • TEL NEXX, Inc. - めっき装置、PVD装置の開発・製造・販売
  • TEL FSI, Inc. - サーフェスプレパレーション装置の開発・製造・販売

欧州[編集]

  • Tokyo Electron Europe Limited - 全ヨーロッパ統括拠点(Crawley, England)
    German Branch
    Italian Branch
    Netherlandish Branch
    Irish Branch
    French Branch
  • TEL Magnetic Solutions Limited - 磁場中処理熱装置の開発・製造・販売
  • Tokyo Electron Israel Limited

アジア[編集]

  • Tokyo Electron Korea Limited
  • Tokyo Electron Taiwan Limited
  • Tokyo Electron (Shanghai) Limited
  • Tokyo Electron (Shanghai) Logistic Center Limited
  • Tokyo Electron (Kunshan) Limited - FPD製造装置の製造および部品の補修
  • Tokyo Electron Singapore PTE. Limited

保養地[編集]

  • テル箱根クラブ
  • テルニセコリゾート
  • テル熊本クラブ

命名権[編集]

以下の施設の命名権を取得している。

脚注[編集]

  1. ^ 東京エレクトロン株式会社とApplied Materials, Inc.の経営統合契約の解約及びTELジャパン合同会社との株式交換の中止に関するお知らせ - 東京エレクトロン・2015年4月27日

関連項目[編集]

外部リンク[編集]