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東京エレクトロン

出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』
東京エレクトロン株式会社
Tokyo Electron Limited
本社が入居している「赤坂Bizタワー」
種類 株式会社
機関設計 監査役会設置会社[1]
市場情報
東証プライム 8035
1980年6月2日上場
略称 東エレク、TEL
本社所在地 日本の旗 日本
〒107-6325
東京都港区赤坂五丁目3番1号
赤坂Bizタワー
設立 1951年4月6日（※）
（桜洋行株式会社）
業種 電気機器
法人番号 4010401020757 ウィキデータを編集
事業内容 半導体製造装置及びFPD（フラット・パネル・ディスプレイ）製造装置、電子部品・情報通信機器の産業用エレクトロニクス製品の製造・販売
代表者 河合利樹（代表取締役社長兼CEO）
佐々木貞夫（代表取締役副社長）
資本金 549億61百万円
（2026年3月31日現在）[2]
発行済株式総数 4億7163万2733株
（2026年3月31日現在）[2]
売上高 連結：2兆4435億3300万円
（2026年3月期）[2]
営業利益 連結：6249億3600万円
（2026年3月期）[2]
経常利益 連結：6303億3800万円
（2026年3月期）[2]
純利益 連結：5744億5400万円
（2026年3月期）[2]
純資産 連結：2兆699億9600万円
（2026年3月31日現在）[2]
総資産 連結：2兆8609億9700万円
（2026年3月31日現在）[2]
従業員数 連結：19,573人 単独：2,224人
（2025年3月31日現在）[3]
決算期 3月31日
会計監査人 有限責任あずさ監査法人
主要株主 日本マスタートラスト信託銀行（信託口）25.23%
日本カストディ銀行（信託口）10.33%
TBSホールディングス 3.28%
JP MORGAN CHASE BANK 385632 2.82%
TATE STREET BANK WEST CLIENT – TREATY 505234 2.04%
（2025年3月31日現在）[3]
主要子会社 グループ会社参照
関係する人物 久保徳雄
小高敏夫
東哲郎（元社長兼CEO）
常石哲男（元社長・会長）
外部リンク 東京エレクトロン株式会社
特記事項：※ 株式の額面変更のため1978年10月に、（旧）東京エレクトロン株式会社は休眠会社であった（新）東京エレクトロン株式会社に形式上吸収合併され、消滅した。旧会社の設立日は1963年11月11日。
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東京エレクトロン株式会社（とうきょうエレクトロン、英: Tokyo Electron Limited）は、日本の東京都港区赤坂に本社を置く世界最大級の半導体製造装置メーカーの一つ。略称はTEL。半導体製造装置およびフラットパネルディスプレイ製造装置を開発・製造・販売している。この分野でのシェアは国内首位、世界第3位（2021年現在）[4]。国内半導体関連メーカーとして最大の時価総額および営業利益を誇る。

日経平均株価およびTOPIX Core30、JPX日経インデックス400の構成銘柄の一つ[5][6][7]。

概要

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  • 半導体製造装置分野でアメリカのアプライド・マテリアルズ、ラムリサーチ、オランダのASMLと競合する。2022年、ソニーとトヨタなどの大手8社が出資して設立したRapidusや台湾の世界最大半導体メーカーTSMCの熊本工場建設の件でこの会社も再び注目を受けた。元々、海外売上がほとんどであったが、日本が半導体国産化を進めようとしているため、これからは国内への売上が伸びるという展望もある。[8]
  • 半導体製造装置は日本が強みを持っている分野の一つであり、世界中の様々なところで日本製の機械が使われている。特に、東京エレクトロン（TEL）が開発しているコータ／デベロッパーは全世界で90％（EUV露光用はほぼ100％）のシェアを持っている。このように世界の半導体動向にかなり大きな影響を及ぼす会社なので、アメリカのバイデン政権は日本、オランダ、アメリカの半導体同盟の大事さを強調している。オランダのASMLと日本の東京エレクトロンはアメリカのバイデン政権から対中規制に対しての協調を強制されている。[9]
  • 半導体だけではなく、フラットパネルディスプレイ分野でも有名な会社である。次世代OLED量産方式であるInkjet Printing技術を保有している。
  • 業界や株式市場などではTEL、東エレクとよばれることが多い。

主な取り扱い製品

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半導体製造装置

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  • コータ／デベロッパ - 半導体を製造する際に、フォトリソグラフィープロセスにおいて感光剤の塗布と現像を行う装置。
  • エッチング装置
    • プラズマエッチング装置
    • ガスケミカルエッチング装置
  • 成膜装置
    • 熱処理成膜装置 - トランジスタの絶縁膜をつくるための製造装置。半導体製造において、トランジスタの性能向上を図るために、短時間で高温での熱処理が必要とされている。
    • ALD装置
    • CVD装置
    • PVD装置
    • 枚葉成膜装置
    • 縦型拡散/LP-CVD/ALD装置
    • SiCエピタキシャル成膜装置
  • 洗浄装置 - 半導体製造過程において、チリ、ほこりなどの不純物を洗浄するための装置。
    • 枚葉洗浄装置
    • オートウェットステーション
    • バッチスプレー式洗浄装置
    • 極低温エアロゾル枚葉洗浄装置
    • スクラバー洗浄装置
  • テスト装置
    • ウェーハプローバ
    • マルチセルテストシステム
  • ウェーハボンディング/デボンディング装置
  • ウェーハエッジトリミング装置
  • ガスクラスターイオンビーム装置

フラットパネルディスプレイ製造装置

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沿革

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研究開発拠点

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歴代社長

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代氏名就任日退任日備考
東京エレクトロン研究所
1遠藤幸吉1963年1974年
2久保徳雄1974年1978年社名改称
東京エレクトロン
2久保徳雄1978年1980年
3小高敏夫1980年1990年
4井上皓1990年1996年
5東哲郎1996年2003年
6佐藤潔2003年2009年
7竹中博司2009年2013年
8東哲郎2013年2015年
9河合利樹2016年現職

グループ会社

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日本

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  • 東京エレクトロン デバイス株式会社 - 産業用エレクトロニクス製品の設計・開発、半導体電子デバイス及び情報通信機器の販売、保守
  • 東京エレクトロン FE株式会社 - 装置の設置・保守サービス
  • 東京エレクトロン BP株式会社 - 物流サービス、施設管理、給与・福利厚生、オフィスサポート
  • 東京エレクトロン エージェンシー株式会社 - 保険代理

米国

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  • Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc. - 米国統括拠点
  • Tokyo Electron America, Inc. - 米国におけるセールス・サポート
  • TEL Technology Center, America, LLC. - 半導体製造装置の研究・開発
  • TEL Venture Capital, Inc.
  • TEL Epion Inc. - ガスクラスターイオンビーム(GCIB)技術を用いた産業用製造装置の開発・製造
  • TEL FSI, Inc. - サーフェスプレパレーション装置の開発・製造・販売

欧州

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  • Tokyo Electron Europe Limited - 全ヨーロッパ統括拠点(Crawley, England)
    German Branch
    Italian Branch
    Netherlandish Branch
    Irish Branch
    French Branch
  • TEL Solar Services AG
  • TEL Magnetic Solutions Limited - 磁場中処理熱装置の開発・製造・販売
  • Tokyo Electron Israel Limited

アジア

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  • Tokyo Electron Korea Limited
    • 代表者 理事会長　堀井 義明 代表理事社長　元 濟亨
  • Tokyo Electron Taiwan Limited
    • 代表者 董事・総経理　秦 雅章
  • Tokyo Electron (Shanghai) Limited
    • 代表者 董事・総経理　Jay Chen
  • Tokyo Electron (Shanghai) Logistic Center Limited
    • 代表者 董事・総経理　Jay Chen
  • Tokyo Electron (Kunshan) Limited - FPD製造装置の製造および部品の補修
    • 代表者 董事・総経理　Jay Chen
  • Tokyo Electron Singapore PTE. Limited
    • 代表者　伊藤 秀樹

保養地

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  • テルニセコリゾート
  • テル箱根クラブ
  • 東京エレクトロン軽井沢クラブ
  • 東京エレクトロン松島クラブ
  • テル熊本クラブ

命名権

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以下の施設の命名権を取得している。

脚注

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出典

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  1. ↑ コーポレートガバナンス - 東京エレクトロン株式会社 2025年11月30日閲覧。
  2. 1 2 3 4 5 6 7 8 “2026年3月期 決算短信〔日本基準〕（連結）” (PDF). 東京エレクトロン株式会社. 2026年5月2日閲覧。
  3. 1 2 “有価証券報告書‐第62期（2024年4月1日 - 2025年3月31日）” (PDF). 東京エレクトロン株式会社. 2025年1月19日閲覧。
  4. ↑ “2021 Top Semiconductor Equipment Suppliers by VLSIresearch” (英語). VLSI Research. 2021年4月24日閲覧。
  5. ↑ “構成銘柄一覧 日経平均株価”. 日経平均プロフィル. 2025年1月9日閲覧。
  6. ↑ “「TOPIXニューインデックスシリーズ」の定期選定結果及び構成銘柄一覧” (PDF). 日本取引所グループ (2021年10月7日). 2025年1月9日閲覧。
  7. ↑ “構成銘柄一覧 JPX日経インデックス”. 日経平均プロフィル. 2025年1月9日閲覧。
  8. ↑ 日本放送協会 (2022年11月11日). “先端半導体国産化へ日本企業8社が共同で新会社設立正式発表 | NHK”. NHKニュース. 2023年6月25日閲覧。
  9. ↑ “U.S. calls out Japan and Netherlands over China chip curbs” (英語). Nikkei Asia. 2023年6月25日閲覧。
  10. ↑ 東京エレクトロン株式会社とApplied Materials, Inc.の経営統合契約の解約及びTELジャパン合同会社との株式交換の中止に関するお知らせ - 東京エレクトロン・2015年4月27日
  11. ↑ “子会社(NEXX社)株式譲渡に関するお知らせ | Press Release | 東京エレクトロン株式会社”. www.tel.co.jp. 2021年4月24日閲覧。
  12. ↑ “東京エレクトロン、米BRIDGと次世代プロセス・装置・デバイスの開発でパートナーシップを発表”. 日本経済新聞 (2019年7月10日). 2021年4月24日閲覧。
  13. ↑ 企業立地促進条例に基づき５件の事業計画を認定しました/横浜市記者発表資料 (PDF) （横浜市経済局企業投資促進課 2025年4月11日）
  14. ↑ 東京エレクトロン、MM21に拠点新設　横浜市が計画認定（日本経済新聞 2025年4月11日）
  15. ↑ 半導体呼び込む横浜・みなとみらい　東京エレクトロンも研究開発の新拠点（神奈川新聞「カナロコ」 2025年4月11日）
  16. ↑ “「宮城県民会館」ネーミングライツ（命名権）について”. 東京エレクトロン (2014年2月4日). 2019年12月22日閲覧。
  17. ↑ “「宮城県民会館」ネーミングライツ（命名権）延長について”. 東京エレクトロン (2016年12月16日). 2019年12月22日閲覧。
  18. ↑ “「東京エレクトロンホール宮城」継続　県民会館の命名権、２０年４月から３年間”. 河北新報 (2019年11月29日). 2019年12月22日閲覧。
  19. ↑ “韮崎市営新体育館「韮崎中央体育館」のネーミングライツ・パートナーが決定しました！”. 韮崎市 (2025年7月1日). 2025年8月30日閲覧。

関連項目

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外部リンク

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