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[[:en: Integrated device manufacturer |IDM]]や[[ファウンドリ]]などの半導体メーカーは、[[ムーアの法則]]に従い、製造するIC（[[集積回路]]）を年々微細化する。ICの製造工程では、30から40回[[シリコンウェハー]]に露光するため、露光機の性能がICの性能を左右すると言っても過言ではない。その為、ASMLは継続的に研究開発を行っている<ref>{{cite web|url=http://jp.wsj.com/articles/SB11248959841534934584204582351212992525898|title=ASMLの半導体技術、「ムーアの法則」維持できるか|accessdate=2017-01-02|date=2016-10-03|publisher=ウォール・ストリート・ジャーナル}}</ref>。
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ASMLは[[液浸]]の採用によって2003年以降、躍進した<ref name="ekishin">[http://eetimes.jp/ee/articles/1608/30/news022_2.html F2スキャナーからArF「液浸」スキャナーへの大逆転]</ref>。一方、現代の液浸露光技術に関する核心特許はニコンが保有していて両社の間には最近の2019年まで様々な法的紛争が行っていた。2006年に出荷された「XT:1700i」は45nm世代の量産に向けたArF液浸スキャナーで、光学系の開口数（N.A.）が1.20と、初めてこれまでの限界とされてきた1.00を超えた<ref name="ekishin" />。
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近年の露光機には、光源に[[紫外線]]を発するArF[[エキシマレーザー]]が使用されており、さらに[[液浸]]露光技術が用いられる。2019年には液浸露光装置の[[分解能 |解像度]]が13[[ナノメートル]]に達した。<ref name="ASMLの歴史">{{Cite web|title=ASMLの歴史 |url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=JA&ctx=43436&rid=43443 |accessdate=2012-07-20}}</ref>
近年の露光機には、光源に[[紫外線]]を発するArF[[エキシマレーザー]]が使用されており、さらに[[液浸]]露光技術が用いられる。2019年には液浸露光装置の[[分解能 |解像度]]が13[[ナノメートル]]に達した。<ref name="ASMLの歴史">{{Cite web|title=ASMLの歴史 |url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=JA&ctx=43436&rid=43443 |accessdate=2012-07-20}}</ref>

2020年9月9日 (水) 13:31時点における版

ASMLホールディング
ASML Holding N.V.
フェルトホーフェンの本社
種類 公開会社
市場情報 Euronext: ASML
NASDAQ: ASML
本社所在地 オランダの旗 オランダ
5504
De Run 6501, フェルトホーフェン
設立 1984年 (40年前) (1984)
業種 半導体産業
事業内容 半導体露光装置の製造・販売
売上高 増加 56億5103万ユーロ （2011年）[1]
純利益 増加 14億6696万ユーロ （2011年）[1]
総資産 72億6081万ユーロ （2011年）[1]
従業員数 19,216人 （2017年）
外部リンク 公式ウェブサイト
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ASML（蘭: ASML Holding N.V.）は、オランダ南部・フェルトホーフェンに本部を置く半導体製造装置メーカーである。半導体露光装置（ステッパー、フォトリソグラフィ装置）を販売する世界最大の会社で、16ヶ国に60以上の拠点を有し、世界中の主な半導体メーカーの80%以上がASMLの顧客である。日本法人はエーエスエムエル・ジャパン株式会社。ユーロネクスト・アムステルダム、NASDAQ上場企業（Euronext: ASML 、NASDAQ: ASML）。

概要

IDMやファウンドリなどの半導体メーカーは、ムーアの法則に従い、製造するIC（集積回路）を年々微細化する。ICの製造工程では、30から40回シリコンウェハーに露光するため、露光機の性能がICの性能を左右すると言っても過言ではない。その為、ASMLは継続的に研究開発を行っている[2]。

ASMLは液浸の採用によって2003年以降、躍進した[3]。一方、現代の液浸露光技術に関する核心特許はニコンが保有していて両社の間には最近の2019年まで様々な法的紛争が起きていた。2006年に出荷された「XT:1700i」は45nm世代の量産に向けたArF液浸スキャナーで、光学系の開口数（N.A.）が1.20と、初めてこれまでの限界とされてきた1.00を超えた[3]。

近年の露光機には、光源に紫外線を発するArFエキシマレーザーが使用されており、さらに液浸露光技術が用いられる。2019年には液浸露光装置の解像度が13ナノメートルに達した。[4]

光学系はカール・ツァイスが供給し、蛍石や石英がレンズに使用されている。近年では反射鏡を組み合わせた光学系もある。カール・ツァイスは2000年代初頭自社の半導体関係のビジネスを子会社であるSMTに分社化していて、このSMTには近年ASMLが資本参加している。なお光源は2012年買収したアメリカのサイマーから前から調達している。そういう経緯で一時国内外からオープンイノベーションの成功例と言われたASMLが現在は技術の囲い込みを達成しているほど、ニコンなどの日本勢の特徴だった技術の自己負担主義との区別がつかない現状になっている。

ASMLは2020年（令和2年）現在、世界唯一の極端紫外線リソグラフィ装置メーカーである。同装置の価格は1台当100億円に達する[5]。

世界シェア・ランキング

売上高ベースで2019年のASML露光装置の世界シェアは81.2％である[6]。1996年は日本のニコンが約50％弱、キヤノンが約25％のシェアを獲得していた。

2008年の半導体製造装置メーカーランキング（VLSI Researchによる）では、東京エレクトロンを抜き2位に浮上し、[7] 2011年の同ランキングではアプライド・マテリアルズを抜き、初めて1位となった。[8]

沿革

  • 1984年 フィリップス社とASMインターナショナル社がそれぞれ50％ずつ出資する合弁会社ASM Lithographyとして設立[4]
  • 1988年 スピンオフし独立した企業となり、旧社名の省略形のASMLを社名とする
  • 1995年 アムステルダム証券取引所およびナスダックに上場[4]
  • 2000年 アメリカの同業SVGを買収
  • 2001年 エーエスエムエル・ジャパン株式会社を設立。同年12月ニコンから提訴される
  • 2004年8月にArF液浸露光装置の第1世代機（試作機）「AT:1150i」出荷
  • 2004年 第2世代機（先行量産機）「XT:1250i」出荷
  • 2004年 第3世代機（量産機）「XT:1400i」出荷
  • 2006年 第4世代機（量産機）「XT:1700i」出荷
  • 2012年 アメリカのサイマーを買収[9]
  • 2016年 台湾の漢民微速科技を買収[10]
  • 2017年 ニコンからまた提訴される
  • 2019年 ニコンとの和解成立[11]

日本法人

日本法人は「エーエスエムエル・ジャパン株式会社」（ASMLジャパン）で、2001年に設立、東京（御殿山トラストタワー）に本社オフィスを持つほか、北上市、鶴岡市、四日市市、東広島市、熊本市、長崎市にオフィスを持つ[12]。

関連項目

出典

  1. ^ a b c “Five-Year Financial Summary in Annual Report 2011”. 2012年7月19日閲覧。
  2. ^ “ASMLの半導体技術、「ムーアの法則」維持できるか”. ウォール・ストリート・ジャーナル (2016年10月3日). 2017年1月2日閲覧。
  3. ^ a b F2スキャナーからArF「液浸」スキャナーへの大逆転
  4. ^ a b c “ASMLの歴史”. 2012年7月20日閲覧。
  5. ^ “Our technology - Supplying the semiconductor industry” (英語). www.asml.com. 2020年9月9日閲覧。
  6. ^ 世界半導体製造装置・試験/検査装置市場年鑑2019. グローバルネット株式会社. (2019年 2019) 
  7. ^ https://www.vlsiresearch.com/public/cms_pdf_upload/pdf_file_1237312663.htm
  8. ^ https://www.vlsiresearch.com/public/cms_pdf_upload/706001v1.0.htm
  9. ^ “ASML、半導体向けEUVリソグラフィの開発を促進に向けCymerを買収”. マイナビニュース (2012年10月17日). 2017年1月2日閲覧。
  10. ^ “蘭ＡＳＭＬが台湾の漢民微測科技を買収へ－約3260億円で”. ブルームバーグ (2016年6月16日). 2017年1月2日閲覧。
  11. ^ “Nikon | ニュース | 報道資料：ニコン、ASML、Carl Zeiss間における全ての訴訟手続の和解合意について”. www.nikon.co.jp. 2020年9月9日閲覧。
  12. ^ “Contact information” (英語). ASML Holding N.V.. 2020年7月25日閲覧。

外部リンク

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  5. プロサス（PRX）
  6. Adyen（ADYEN）
  7. INGグループ（INGA）
  8. アホールド・デレーズ（AD）
  9. ウォルターズ・クルワー（WKL）
  10. ハイネケン（HEIA）
  11. DSM（DSM）
  12. ユニバーサル ミュージック グループ (UMG)
  13. ASMインターナショナル（ASM）
  14. フィリップス（PHIA）
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  17. KPN（KPN）
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  20. エクソール（EXO）
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  22. エイゴン（AGN）
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