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'''ASML'''({{lang-nl-short|ASML Holding N.V.}})は、[[オランダ]]南部・フェルトホーフェンに本部を置く[[半導体]]製造装置メーカーである。半導体露光装置([[ステッパー]]、[[フォトリソグラフィ]]装置)を販売する世界最大の会社で、16ヶ国に60以上の拠点を有し、世界中の主な半導体メーカーの80%以上がASMLの顧客である。[[ユーロネクスト・アムステルダム]]、[[NASDAQ]]上場企業({{Euronext|ASML}}、{{NASDAQ| |
'''ASML'''({{lang-nl-short|ASML Holding N.V.}})は、[[オランダ]]南部・フェルトホーフェンに本部を置く[[半導体]]製造装置メーカーである。半導体露光装置([[ステッパー]]、[[フォトリソグラフィ]]装置)を販売する世界最大の会社で、16ヶ国に60以上の拠点を有し、世界中の主な半導体メーカーの80%以上がASMLの顧客である。日本法人は'''エーエスエムエル・ジャパン株式会社'''。[[ユーロネクスト・アムステルダム]]、[[NASDAQ]]上場企業({{Euronext|ASML}}、{{NASDAQ|ASML}})。 |
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== 概要 == |
== 概要 == |
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[[:en: Integrated device manufacturer |IDM]]や[[ファウンドリ]]などの半導体メーカーは、[[ムーアの法則]]に従い、製造するIC([[集積回路]])を年々微細化する。ICの製造工程では、30から40回[[シリコンウェハー]]に露光するため、露光機の性能がICの性能を左右すると言っても過言ではない。その為、ASMLは継続的に研究開発を行っている<ref>{{cite web|url=http://jp.wsj.com/articles/SB11248959841534934584204582351212992525898|title=ASMLの半導体技術、「ムーアの法則」維持できるか|accessdate=2017-01-02|date=2016-10-03|publisher=ウォール・ストリート・ジャーナル}}</ref>。 |
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近年の露光機には、光源に[[紫外線]]を発するArF[[エキシマレーザー]]が使用されており、さらに[[液浸]]露光技術が用いられる。2007年には液浸露光装置の[[分解能 |解像度]]が37[[ナノメートル]]に達した。<ref name="ASMLの歴史">{{Cite web|title=ASMLの歴史 |url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=JA&ctx=43436&rid=43443 |accessdate=2012-07-20}}</ref> |
近年の露光機には、光源に[[紫外線]]を発するArF[[エキシマレーザー]]が使用されており、さらに[[液浸]]露光技術が用いられる。2007年には液浸露光装置の[[分解能 |解像度]]が37[[ナノメートル]]に達した。<ref name="ASMLの歴史">{{Cite web|title=ASMLの歴史 |url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=JA&ctx=43436&rid=43443 |accessdate=2012-07-20}}</ref> |
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* 2012年 アメリカの同業サイマーを買収<ref>{{cite web|url=http://news.mynavi.jp/news/2012/10/17/108/|title=ASML、半導体向けEUVリソグラフィの開発を促進に向けCymerを買収|accessdate=2017-01-02|date=2012-10-17|publisher=マイナビニュース}}</ref> |
* 2012年 アメリカの同業サイマーを買収<ref>{{cite web|url=http://news.mynavi.jp/news/2012/10/17/108/|title=ASML、半導体向けEUVリソグラフィの開発を促進に向けCymerを買収|accessdate=2017-01-02|date=2012-10-17|publisher=マイナビニュース}}</ref> |
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* 2016年 台湾の漢民微速科技を買収<ref>{{cite web|url=https://www.bloomberg.co.jp/news/articles/2016-06-16/O8U8RP6S973201|title=蘭ASMLが台湾の漢民微測科技を買収へ-約3260億円で|accessdate=2017-01-02|date=2016-06-16|publisher=ブルームバーグ}}</ref> |
* 2016年 台湾の漢民微速科技を買収<ref>{{cite web|url=https://www.bloomberg.co.jp/news/articles/2016-06-16/O8U8RP6S973201|title=蘭ASMLが台湾の漢民微測科技を買収へ-約3260億円で|accessdate=2017-01-02|date=2016-06-16|publisher=ブルームバーグ}}</ref> |
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== 日本法人 == |
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== 関連項目 == |
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== 外部リンク == |
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2020年7月25日 (土) 08:18時点における版
フェルトホーフェンの本社 | |
種類 | 公開会社 |
---|---|
市場情報 |
Euronext: ASML NASDAQ: ASML |
本社所在地 |
オランダ 5504 De Run 6501, フェルトホーフェン |
設立 | 1984年 |
業種 | 半導体産業 |
事業内容 | 半導体露光装置の製造・販売 |
売上高 | 56億5103万ユーロ (2011年)[1] |
純利益 | 14億6696万ユーロ (2011年)[1] |
総資産 | 72億6081万ユーロ (2011年)[1] |
従業員数 | 19,216人 (2017年) |
外部リンク | 公式ウェブサイト |
ASML(蘭: ASML Holding N.V.)は、オランダ南部・フェルトホーフェンに本部を置く半導体製造装置メーカーである。半導体露光装置(ステッパー、フォトリソグラフィ装置)を販売する世界最大の会社で、16ヶ国に60以上の拠点を有し、世界中の主な半導体メーカーの80%以上がASMLの顧客である。日本法人はエーエスエムエル・ジャパン株式会社。ユーロネクスト・アムステルダム、NASDAQ上場企業(Euronext: ASML 、NASDAQ: ASML)。
概要
IDMやファウンドリなどの半導体メーカーは、ムーアの法則に従い、製造するIC(集積回路)を年々微細化する。ICの製造工程では、30から40回シリコンウェハーに露光するため、露光機の性能がICの性能を左右すると言っても過言ではない。その為、ASMLは継続的に研究開発を行っている[2]。
近年の露光機には、光源に紫外線を発するArFエキシマレーザーが使用されており、さらに液浸露光技術が用いられる。2007年には液浸露光装置の解像度が37ナノメートルに達した。[3]
光学系はカール・ツァイスが供給し、蛍石や石英がレンズに使用されている。近年では反射鏡を組み合わせた光学系もある。
ASMLは液浸の採用によって2003年以降、躍進した[4]。2006年に出荷された「XT:1700i」は45nm世代の量産に向けたArF液浸スキャナーで、光学系の開口数(N.A.)が1.20と、初めてこれまでの限界とされてきた1.00を超えた[4]。
世界シェア・ランキング
売上高ベースで2007年のASML露光装置の世界シェアは65%。[5] 1996年は日本のニコンが約50%弱、キヤノンが約25%のシェアを獲得していた。
2008年の半導体製造装置メーカーランキング(VLSI Researchによる)では、東京エレクトロンを抜き2位に浮上し、[6] 2011年の同ランキングではアプライド・マテリアルズを抜き、初めて1位となった。[7]
沿革
- 1984年 フィリップス社とASMインターナショナル社がそれぞれ50%ずつ出資する合弁会社ASM Lithographyとして設立[3]
- 1988年 スピンオフし独立した企業となり、旧社名の省略形のASMLを社名とする
- 1995年 アムステルダム証券取引所およびナスダックに上場[3]
- 2001年 エーエスエムエル・ジャパン株式会社を設立
- 2004年8月にArF液浸露光装置の第1世代機(試作機)「AT:1150i」出荷
- 2004年 第2世代機(先行量産機)「XT:1250i」出荷
- 2004年 第3世代機(量産機)「XT:1400i」出荷
- 2006年 第4世代機(量産機)「XT:1700i」出荷
- 2012年 アメリカの同業サイマーを買収[8]
- 2016年 台湾の漢民微速科技を買収[9]
日本法人
日本法人は「エーエスエムエル・ジャパン株式会社」(ASMLジャパン)で、2001年に設立、東京(御殿山トラストタワー)に本社オフィスを持つほか、北上市、鶴岡市、四日市市、東広島市、熊本市、長崎市にオフィスを持つ[10]。
関連項目
- 国際半導体技術ロードマップ
- IMEC
- Multiple Patterning (英語)
- EUV Lithography (英語)
出典
- ^ a b c “Five-Year Financial Summary in Annual Report 2011”. 2012年7月19日閲覧。
- ^ “ASMLの半導体技術、「ムーアの法則」維持できるか”. ウォール・ストリート・ジャーナル (2016年10月3日). 2017年1月2日閲覧。
- ^ a b c “ASMLの歴史”. 2012年7月20日閲覧。
- ^ a b F2スキャナーからArF「液浸」スキャナーへの大逆転
- ^ http://www.asml.com/asml/show.do?ctx=40715&rid=40723
- ^ https://www.vlsiresearch.com/public/cms_pdf_upload/pdf_file_1237312663.htm
- ^ https://www.vlsiresearch.com/public/cms_pdf_upload/706001v1.0.htm
- ^ “ASML、半導体向けEUVリソグラフィの開発を促進に向けCymerを買収”. マイナビニュース (2012年10月17日). 2017年1月2日閲覧。
- ^ “蘭ASMLが台湾の漢民微測科技を買収へ-約3260億円で”. ブルームバーグ (2016年6月16日). 2017年1月2日閲覧。
- ^ “Contact information” (英語). ASML Holding N.V.. 2020年7月25日閲覧。
外部リンク
- エーエスエムエル・ジャパン株式会社(ASMLジャパン)
- グローバルサイト(英語)
- ASML (asml) - Facebook(英語)
- ASML (@asmlcompany) - X(旧Twitter)(英語)
- ASML (@asmlcompany) - Instagram(英語)
- ASMLcompany - YouTubeチャンネル(英語)