ファイル:Locos (microtechnology) process.svg
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現在の版 | 2009年12月14日 (月) 19:02 | 512 × 796 (27キロバイト) | Cepheiden | some fixes | |
2008年1月19日 (土) 16:53 | 625 × 1,000 (56キロバイト) | Twisp | {{Information |Description= {{en|The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures. I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, ni |
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