ファイル:Photolithography etching process.svg

ページのコンテンツが他言語でサポートされていません。

元のファイル ‎(SVG ファイル、512 × 2,560 ピクセル、ファイルサイズ: 8キロバイト)

この画像を で描画する。
ウィキメディア・コモンズ
  • このファイルは、ウィキメディア・コモンズから呼び出されています。
  • このファイルは、他のプロジェクトで使用されている可能性があります。
  • このファイルの解説やノートへの記入、履歴などの詳細の確認は、ウィキメディア・コモンズのファイルページ（ノート/履歴/ログ）を使用してください。
ウィキメディア・コモンズのファイルページにある説明を、以下に表示します。
このファイルを翻訳

このSVGファイルには翻訳可能な埋め込みテキストが含まれています。SVG翻訳ツールや他のSVGエディタを使用して自分の言語に翻訳可能です。詳しくはSVGファイルの翻訳についてを参照してください。

 
W3C-validity not checked.

概要

解説
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale.
原典 投稿者自身による著作物
作者 Cmglee
その他のバージョン
  • ドイツ語 .svg
    ドイツ語 .svg
  • 英語 .svg
    英語 .svg
  • ロシア語 .svg
    ロシア語 .svg
このファイルの派生的著作物：  Photolithography etching process (DE).svg

ライセンス

この作品の著作権者である私は、この作品を以下のライセンスで提供します。
w:ja:クリエイティブ・コモンズ
表示 継承
このファイルはクリエイティブ・コモンズ 表示-継承 3.0 非移植ライセンスのもとに利用を許諾されています。
あなたは以下の条件に従う場合に限り、自由に
  • 共有 – 本作品を複製、頒布、展示、実演できます。
  • 再構成 – 二次的著作物を作成できます。
あなたの従うべき条件は以下の通りです。
  • 表示 – あなたは適切なクレジットを表示し、ライセンスへのリンクを提供し、変更があったらその旨を示さなければなりません。これらは合理的であればどのような方法で行っても構いませんが、許諾者があなたやあなたの利用行為を支持していると示唆するような方法は除きます。
  • 継承 – もしあなたがこの作品をリミックスしたり、改変したり、加工した場合には、あなたはあなたの貢献部分を元の作品とこれと同一または互換性があるライセンスの下に頒布しなければなりません。
GNU head この文書は、フリーソフトウェア財団発行のGNUフリー文書利用許諾書 (GNU Free Documentation License) 1.2またはそれ以降のバージョンの規約に基づき、複製や再配布、改変が許可されます。不可変更部分、表紙、背表紙はありません。このライセンスの複製は、GNUフリー文書利用許諾書という章に含まれています。
あなたは上記のライセンスから、どれか一つ以上を選択できます。

キャプション

このファイルの内容を1行で記述してください

このファイルに描写されている項目

題材

ファイルの履歴

過去の版のファイルを表示するには、その版の日時をクリックしてください。

日付と時刻サムネイル寸法利用者コメント
現在の版2022年4月17日 (日) 08:272022年4月17日 (日) 08:27時点における版のサムネイル512 × 2,560 (8キロバイト)DjibounFile uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr.
2020年6月20日 (土) 13:182020年6月20日 (土) 13:18時点における版のサムネイル512 × 2,560 (5キロバイト)Mega deppaReverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC)
2020年6月20日 (土) 13:162020年6月20日 (土) 13:16時点における版のサムネイル512 × 2,560 (8キロバイト)Mega deppaFile uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja.
2011年10月9日 (日) 16:522011年10月9日 (日) 16:52時点における版のサムネイル512 × 2,560 (5キロバイト)CmgleeAlign text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg.
2011年9月30日 (金) 22:032011年9月30日 (金) 22:03時点における版のサムネイル512 × 2,560 (5キロバイト)CmgleeMerge develop and remove exposed photoresist.
2011年9月29日 (木) 22:462011年9月29日 (木) 22:46時点における版のサムネイル512 × 2,926 (5キロバイト)CmgleeFix text alignment.
2011年9月29日 (木) 22:392011年9月29日 (木) 22:39時点における版のサムネイル512 × 2,926 (5キロバイト)CmgleeFix text alignment.
2011年9月29日 (木) 22:372011年9月29日 (木) 22:37時点における版のサムネイル512 × 2,926 (5キロバイト)CmgleeFix text alignment.
2011年9月29日 (木) 22:302011年9月29日 (木) 22:30時点における版のサムネイル512 × 3,413 (5キロバイト)Cmglee{{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date

以下の​ 2 ページがこのファイルを使用しています:

グローバルなファイル使用状況

以下に挙げる他のウィキがこの画像を使っています:

メタデータ

このファイルには、追加情報があります (おそらく、作成やデジタル化する際に使用したデジタルカメラやスキャナーが追加したものです)。

このファイルが元の状態から変更されている場合、修正されたファイルを完全に反映していない項目がある場合があります。

「https://ja.wikipedia.org/wiki/ファイル:Photolithography_etching_process.svg」から取得