ファイル:Leiterbahn ausfallort elektromigration.jpg

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Leiterbahn_ausfallort_elektromigration.jpg ‎(512 × 512 ピクセル、ファイルサイズ: 65キロバイト、MIME タイプ: image/jpeg)

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解説
Deutsch: Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Plasmaätzen (RIE) und w:de:Fluorwasserstoffsäure (HF) entfernt. Die Ätzprozesse sind dabei nicht erprobt gewesen und beruhen auf Versuchen das bestmögliche Resultat zu erlangen.
English: SEM image of a failure caused by electromigration in a copper interconnect. The passivation has been removed by RIE and HF
原典 Mit dem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen
作者 Patrick-Emil Zörner
その他のバージョン keine bekannt!


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  • Image contributor(s): Paddy
    • 2004-03-03T00:01:48Z UTC Paddy 512x512 (66389 bytes)

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現在の版2007年3月6日 (火) 17:242007年3月6日 (火) 17:24時点における版のサムネイル512 × 512 (65キロバイト)CommonismNow{{Information| |Description=Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Reactive Ion Etching (RIE) und [[w:de:Fluorwasserst

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