ファイル:Extreme ultraviolet lithography tool.jpg

元のファイル ‎(713 × 605 ピクセル、ファイルサイズ: 80キロバイト、MIME タイプ: image/jpeg)

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解説

English: EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.

日付

1998年3月4日

原典

Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997, available from osti.gov.

作者

Lawrence Livermore National Laboratory

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	日付と時刻	サムネイル	寸法	利用者	コメント
現在の版	2011年9月22日 (木) 18:19		713 × 605 (80キロバイト)	Bomazi	{{Information \|Description ={{en\|1=EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.}} \|Source =''Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997'', available from [http://www.osti.gov/bridge/product.biblio.

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