LIGA

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LIGAとはドイツ語でX線を用いたフォトリソグラフィ(Lithographie)、電解めっき (Galvanoformung)、形成(Abformung)による微細加工を意味する。

1980年代初頭にカールスルーエ核開発研究所(Institut für Kernverfahrenstechnik IKVT)のErwin Willy BeckerWolfgang Ehrfeldのチームによって開発された[1][2][3]

LIGAは高縦横比の微細構造物を作成する要求に応える最初の主要な技術の一つである。MEMS素子の製造において重要な役割を担う。高輝度のX線を要するのでシンクロトロン放射光を使用する。

今日では3種類の異なるLIGA技術がある。

  • X-線 LIGA 最初に開発されたLIGA技術でシンクロトロン放射光を使用。
  • UV-LIGA 通常は水銀灯からの紫外線を使用する。特殊なSU-8のようなレジストを使用する。
  • シリコン-LIGA シリコンの加工にDRIEを使用する。

サンディア国立研究所の研究者達は1990年代から2000年代初頭にかけて開発した。

脚注[編集]

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  1. ^ Becker EW et al, "Production of Separation-Nozzle Systems for Uranium Enrichment by a Combination of X-Ray Lithography and Galvanoplastics", Naturwissenschaften 69, 520-523 (1982)
  2. ^ present name/successor institution: Institute for Microstructure Technology (Institut für Mikrostrukturtechnik) IMT
  3. ^ present name: Forschungszentrum Karlsruhe (Karlsruhe Research Center)

外部リンク[編集]