LIGA

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LIGAプロセスで製造された同位体分離用ノズル
LIGAプロセスで製造された微細構造体。
LIGAプロセスで製造された光スイッチ

LIGAとはドイツ語でX線を用いたフォトリソグラフィ(Lithographie)、電解めっき (Galvanoformung)、形成(Abformung)による微細加工を意味する。

1980年代初頭にカールスルーエ核開発研究所(Institut für Kernverfahrenstechnik IKVT)[1][2]Erwin Willy BeckerWolfgang Ehrfeldのチームによってウラン濃縮のための圧力勾配で噴出すガスの遠心力を用いる流体素子の一種である同位体分離ノズルを製造するために開発された[3][4][5][6]

LIGAは高縦横比の微細構造物を作成する要求に応える最初の主要な技術の一つである。MEMS素子の製造において重要な役割を担う。高輝度のX線を要するのでシンクロトロン放射光を使用する。

今日では3種類の異なるLIGA技術がある。

サンディア国立研究所の研究者達は1990年代から2000年代初頭にかけて開発した。

脚注[編集]

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  1. ^ 現在の名称: Forschungszentrum Karlsruhe (Karlsruhe Research Center)
  2. ^ 現在の名称/後継機関: Institute for Microstructure Technology (Institut für Mikrostrukturtechnik) IMT
  3. ^ LIGA プロセス―マイクロデバイスへの応用と今後の展望―
  4. ^ Becker, E. W.; Ehrfeld, W.; Münchmeyer, D.; Betz, H.; Heuberger, A.; Pongratz, S.; Glashauser, W.; Michel, H. J. et al. (1982). “Production of Separation-Nozzle Systems for Uranium Enrichment by a Combination of X-Ray Lithography and Galvanoplastics”. Naturwissenschaften 69 (11): 520–523. doi:10.1007/BF00463495. 
  5. ^ E. W. Becker; W. Ehrfeld; P. Hagmann; A. Maner; D. Munchmeyer (1986年5月). “Fabrication of microstructures with high aspect ratios and great structural heights by synchrotron radiation lithography, galvanoforming, and plastic moulding (LIGA process)”. Microelectronic Engineering 4 (1): 35-56. doi:10.1016/0167-9317(86)90004-3. 
  6. ^ P. Hagmann; W. Ehrfeld (1989年). “Fabrication of Microstructures of Extreme Structural Heights by Reaction Injection Molding”. International Polymer Processing (Hanser Publishers) 4 (3): 188-195. doi:10.3139/217.890188. 

外部リンク[編集]