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電子注入促進型絶縁ゲートトランジスタ

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』

電子注入促進型絶縁ゲートトランジスタ(でんしちゅうにゅうそくしんがたぜつえんゲートトランジスタ、: injection enhanced gate transistorIEGT)は半導体素子のひとつで、絶縁ゲートバイポーラトランジスタの構造を改良したパワーデバイスである。[1]

脚注

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関連項目

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外部リンク

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