「ASML」の版間の差分

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近年の露光機には、光源に[[紫外線]]を発するArF[[エキシマレーザー]]が使用されており、さらに[[液浸]]露光技術が用いられる。2019年には液浸露光装置の[[分解能 |解像度]]が13[[ナノメートル]]に達した。<ref name="ASMLの歴史">{{Cite web|title=ASMLの歴史 |url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=JA&ctx=43436&rid=43443 |accessdate=2012-07-20}}</ref>
 
光学系は[[カール・ツァイス]]が供給し、[[蛍石]]や[[石英]]が[[レンズ]]に使用されている。近年では反射鏡を組み合わせた光学系もある。カール・ツァイスはかつて自社の半導体関係のビジネスを子会社であるSMTに分社化していて、このSMTには近年ASMLが資本参加している。なお光源は2012年買収したアメリカのサイマーから前から調達している。そういう経緯で一時国内外から[[オープンイノベーション]]の成功例と言われたASMLが現在は技術の囲い込みを達成しているほど、[[ニコン]]などの日本勢の特徴だった技術の自己負担主義との区別がつかない現状になっている。
 
== 世界シェア・ランキング ==
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