ファイル:Spinner.jpg

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元のファイル ‎(641 × 823 ピクセル、ファイルサイズ: 63キロバイト、MIME タイプ: image/jpeg)

ウィキメディア・コモンズ
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解説
English: A spinner is used to apply a thin even coating of photoresist to a silicon wafer so that the pattern on a photomask can be transferred and a circuit can be fabricated. The image shows a wafer of 6" (125 mm) diameter that has been mounted on the vacuum chuck and is ready for spinning. The user dispenses a drop of photoresist in the center of the wafer and the centrifugal force spreads the fluid into an even film, eliminating excess photoresist at the edge of the wafer in the process.
Note that the light in the room really is yellow.
原典 Photo taken at HP Labs by Alison Chaiken.
作者 Alison Chaiken
許可
(ファイルの再利用)
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キャプション

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このファイルに描写されている項目

題材

露光時間

0.03787878787878787878 秒

F値

2.6

焦点距離

8.2 ミリメートル

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日付と時刻サムネイル寸法利用者コメント
現在の版2014年11月29日 (土) 16:192014年11月29日 (土) 16:19時点における版のサムネイル641 × 823 (63キロバイト)SelakantColour correction and contrast enhancement.
2006年2月3日 (金) 02:232006年2月3日 (金) 02:23時点における版のサムネイル641 × 823 (62キロバイト)ChaikenA '''spinner''' is used to apply a thin even coating of photoresist to a silicon wafer so that the pattern on a photomask can be transferred and a circuit can be fabricated. The i

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