ノート:フォトマスク

フォトマスクとレチクル

実際には、等倍のマスクもレチクルと呼ばれます。 レチクルを使って、レジストを露光、現像したもの（パターニングされたレジスト）も、「マスク」っていうんですよね。 とても紛らわしいです。

と、いうことで、半導体に近い人々は、すべてのフォトマスクのことを「レチクル」と呼んでいます。 あまり詳しくない人たちに説明するときは、わかりやすい「フォトマスク」を使います。 レチクルについては、英語wikiが詳しいですね。 http://en.wikipedia.org/wiki/Reticule

と、いうことで、このページの説明は正しくありません。

>レジストを露光、現像したもの（パターニングされたレジスト）も、「マスク」っていう 　 　これは、加工のために与える何らかの作用に対して選択性を持たせるものが「マスク」の大きな定義だからだろうと 思われます。 　露光においては、レジストの現像性に選択制を持たせるものとして光を選択する「フォトマスク」となり、レジスト は、被加工層へのエッチングに選択制を持たせるために、エッチング工程周辺において「マスク」と表現されるという ことだと思います。

>半導体に近い人々は、すべてのフォトマスクのことを「レチクル」と呼んでいます。 　この「半導体に近い人々」というのはどこまででしょうか？ 　例えば半導体でもパッケージングに近い方は殆ど「マスク」を使われています。MEMS等でも同様です。 　また半導体用、いわゆるレチクルの大手サプライヤーである大日本印刷、凸版印刷、HOYAのHPにおいても、彼らは 自社の商品を「半導体用フォトマスク」と称しており、『すべてのフォトマスクのことを「レチクル」と呼ぶ』こと が一般的とは認識しがたいと考えて、「レチクル」の表現は特記的な記述にしております。 　また、例えば「位相シフト」については、位相シフト「マスク」と表記するのが業界誌から学会まで一般的で、位 相シフト「レチクル」という表記は殆ど見られません。

　また、これはひとつの解釈でしかないですが、フォトリソの比較的年配のエンジニアに聞いてみると、縮小露光を 行う高精細なステッパ、スキャナで使うものが「レチクル」、アライナーなど等倍で比較的解像度の低いもので使う のが「マスク」という意見も多数聞かれています。

　というわけで、記述をした当方としては、レチクルのより広い概念がフォトマスクであり、ご指摘のように「間違 い」というご意見には容易に賛同しかねます。 　ただ、「レチクル」の表記は半導体用に移してもう少し詳細に記述した方がよいかもしれませんね。 --Cdc03220 2010年6月13日 (日) 00:13 (UTC)